Водород в основном используется как реагент вместе с трихлорсиланом или тетрахлоридом кремния в технологии получения эпитаксиальных слоев кремния, как разбавляющий газ, снижающий скорость образования диоксида кремния, как примеси в эпитаксиальных слоях кремния, а также сCVD-процессах.